BS ISO 14706-2000 表面化学分析.采用全反射X射线荧光(TXRF)光谱法对硅片表面元素污染物的测定

作者:标准资料网 时间:2024-05-09 19:24:49  浏览:8658   来源:标准资料网

【英文标准名称】:Surfacechemicalanalysis-Determinationofsurfaceelementalcontaminationonsiliconwafersbytotal-reflectionX-rayfluorescence(TXRF)spectroscopy
【原文标准名称】:表面化学分析.采用全反射X射线荧光(TXRF)光谱法对硅片表面元素污染物的测定
【标准号】:BSISO14706-2000
【标准状态】:现行
【国别】:英国
【发布日期】:2001-05-15
【实施或试行日期】:2001-05-15
【发布单位】:英国标准学会(GB-BSI)
【起草单位】:BSI
【标准类型】:()
【标准水平】:()
【中文主题词】:化学分析和测试;精整;半导体器件;硅;薄片;X射线荧光光谱法
【英文主题词】:Chemicalanalysisandtesting;Finishes;Semiconductordevices;Silicon;Wafers;X-rayfluorescencespectrometry
【摘要】:ThisInternationalStandardspecifiesaTXRFmethodforthemeasurementoftheatomicsurfacedensityofelementalcontaminationonchemomechanicallypolishedorepitaxialsiliconwafersurfaces.Themethodisapplicableto:—elementsofatomicnumberfrom16(S)to92(U);—contaminationelementswithatomicsurfacedensitiesfrom1×10atoms/cmto1×10atoms/cm;—contaminationelementswithatomicsurfacedensitiesfrom5×10atoms/cmto5×10atoms/cmusingaVPD(vapour-phasedecomposition)specimenpreparationmethod(see3.4).
【中国标准分类号】:H17
【国际标准分类号】:71_040_40
【页数】:32P.;A4
【正文语种】:英语